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Atomic layer deposition of nanolaminate oxide films on Si

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Metadaten
Author: Massimo TallaridaORCiD, Martin Weisheit, Krzysztof Kolanek, Marcel Michling, Hans-Jürgen Engelmann, Dieter SchmeißerORCiD
DOI:https://doi.org/10.1007/s11051-011-0319-x
Title of the source (English):Journal of Nanoparticle Research
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2011
Volume/Year:13
Issue number:11
First Page:5975
Last Page:5983
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik
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