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Atomic layer deposition of HfO2 investigated in situ by means of a noncontact atomic force microscopy

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Metadaten
Author: Krzysztof Kolanek, Massimo TallaridaORCiD, Dieter SchmeißerORCiD
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2010
Quelle aus UBICO:Materials Science Poland 28(2010)3, S. 731-740, 0137-1339
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik
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