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In situ studies of the atomic layer deposition of thin HfO2 dielectrics by ultra high vacuum atomic force microscope

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Metadaten
Author: Krzysztof Kolanek, Massimo TallaridaORCiD, Konstantin Karavaev, Dieter SchmeißerORCiD
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2010
Tag:atomic layer deposition; dielectric; in situ; microscope
Quelle aus UBICO:Thin Solid Films 518(2010)16, S. 4688 - 4691, 0040-6090
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik
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