Atomic layer deposition of HfO2 investigated in situ by means of a noncontact atomic force microscopy
Author: | Krzysztof Kolanek, Massimo TallaridaORCiD, Dieter SchmeißerORCiD |
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Document Type: | Scientific journal article peer-reviewed |
Language: | English |
Year of publication: | 2010 |
Quelle aus UBICO: | Materials Science Poland 28(2010)3, S. 731-740, 0137-1339 |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |