Investigations of perspective materials for aggressively scaled gate stacks and contact structures of MOS devices
Author: | Andriy Goryachko |
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URN: | urn:nbn:de:kobv:co1-000000342 |
URL: | http://opus4.kobv.de/opus4-btu/frontdoor/index/index/docId/59 |
Document Type: | Doctoral thesis |
Language: | English |
Year of publication: | 2002 |
Tag: | Angerelection spectroscopy; cobalt silicide; praseodymium oxide; scanning tunneling microscopy; silicon; tungsten nitride; tungsten silicide |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |