Silicate Formation at the Interface of Hf-Oxide and Pr-Oxide as a High-k Dielectric and Si(001) surfaces
Author: | Dieter SchmeißerORCiD, Ehrenfried ZschechORCiD |
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Document Type: | Article |
Language: | English |
Year of publication: | 2006 |
Quelle aus UBICO: | Materials Science in Semiconductor Processing 9(2006)6, S. 934-939, 1369-8001 |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |